Properties of ZnO:Al, ZnO:Al-SiO2 films obtained by the zol-gel method from film-forming solutions

Авторы: Kuznetsova S.A., Malchik A.G., Kozik V.V.
Журнал: / Russian Physics Journal. - Vol. 63 - №. 4
Год публикации: 2020


Аннотация:

Золь-гель-методом из этанольных пленкообразующих растворов на основе Zn[CeH40HCOO]N03, А1(ЫОз)з"9Н20 и Si(OC2H5)4 на стеклянных подложках полнены пленки ZnO, ZnO:Al (5 мае. %) и ZnO:Al (5 мае. %) - Si02 (5 мае. %). Исследованы их пропускающая способность в видимой области спектра, сопротивление и фотокаталитические свойства. Показано, что добавка А1 практически не оказывает влияние на пропускающую способность пленок ZnO в видимой области спектра, но увеличивает проводимость, снижая поверхностное сопротивление до 10' Ом. Наибольшей пропускающей способностью обладают пленки ZnO:Al-Si02 (до 95 %). Добавка Si02 не оказывает влияние на проводимость пленок ZnO:Al. Наибольшей фотокаталитической активностью обладают пленки ZnO:Al. Константа скорости фоторазложения метилового оранжевого составляет 1.47-10" мин" , что на порядок выше скорости разложения метилового оранжевого в присутствии коммерческого фотокатализатора Degussa P25. Добавка Si02 снижает степень кристалличности пленок ZnO:Al и уменьшает их фотокаталитическую активность.